PECVD連續式磁控濺射鍍膜設備生產線：是采用多個真空腔室組成的連續鍍膜成產線模式，各階段的真空腔室可按要求定制定數。制備在低壓和升溫的情況下，等離子子發生器直接裝在鍍膜板中間發生反應。采用射頻PECVD化學氣相沉積技術，沉積速率快，成膜質量好，可鍍膜氧化物薄膜、氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等。
1、設備可由：裝載工作臺+前處理室+離子束清洗室+預鍍膜室（緩沖室）+磁控濺射鍍膜室+平移室+全自動控制系統等組成；全SUS304不銹鋼材質制成。隱藏式雙層冷卻水套設計；
2、每一階段的進程都可以設計成單個真空腔室或多個真空腔室；
3、傳動系統：流軸傳動，變頻可調，感應式室門開啟系統；
4、每一階段的工序進程之間腔室都采用先進的插板閥進行腔室隔斷，可以實現有效隔斷，穩定工藝氣體；
5、裝載工作臺在裝載的同時設備生產線所有腔室同步進行抽真空，以達到工作氣壓要求狀態。極大縮短了前處理工作時間；
6、生產線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
7、電氣控制：生產線采用PLC全過程控制，快速的生產節拍，配備工業計算機顯示系統，控制屏采用分屏監控模式以達到每腔室每階段的實時數據記錄分析；
8、人機對話：控制系統能實現人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
